文/吕栋
“中国半导体设备制造商新凯来（SiCarrier）在上海(hai)的行业活动中抢尽风头，首(shou)次推出新的芯片(pian)制造设备，有望在美国出口管制下(xia)增强中国自力更(geng)生的能力。”《南华早报》写道。
3月26日，半导体行业重要展(zhan)会SEMICON China 2025在上海(hai)开幕。被称为“国家队”的新凯来首(shou)次亮相便引爆关注，大批参观(guan)者(zhe)、媒体、业内同(tong)行和(he)潜在客(ke)户拥挤(ji)在新凯来展(zhan)台。
在现场，新凯来展(zhan)示了工(gong)艺(yi)装备、量(liang)检测(ce)装备等全系(xi)列产品，并发布五款以中国名山命(ming)名的半导体设备，包括外(wai)延沉(chen)积(ji)设备EPI（峨眉山）、原子层沉(chen)积(ji)设备ALD（阿里山）、物理(li)气相沉(chen)积(ji)设备PVD（普(pu)陀山）、刻(ke)蚀设备ETCH（武夷山）和(he)薄膜沉(chen)积(ji)设备CVD（长白山）等。
“这五大设备的成功研(yan)发，是(shi)企业多年(nian)技术积(ji)累的集中体现，也是(shi)国产半导体设备从跟跑到并跑的重要里程碑。我(wo)们将继续加大研(yan)发投入，力争(zheng)在未来三年(nian)内实现更(geng)多关键设备的国产化替代。”新凯来高管在展(zhan)会现场表(biao)示。
新凯来成立于2021年(nian)8月，由深圳市国资委100%持股。官网(wang)提到，新凯来致力于半导体装备及零部(bu)件、电子制造设备的研(yan)发、制造、销售与(yu)服务，企业核心团队具备20年(nian)以上电子设备技术开发经验，并联(lian)合了众多国内半导体制造设备和(he)零部(bu)件合作伙伴，“将国内最(zui)优秀的电子制造解决方案和(he)生产测(ce)试装备推介(jie)给行业客(ke)户，促进产业能力提升。”
行业分析称，新凯来此次展(zhan)示的高精度薄膜沉(chen)积(ji)设备采用独特的反应腔设计(ji)，能够实现纳米级薄膜均匀性(xing)控制，技术参数已接近国际领先水平。而新一(yi)代涂胶显影设备则突破国外(wai)技术垄(long)断，在分辨率和(he)产能方面达到业界先进标准，可满足14纳米及以上制程工(gong)艺(yi)需(xu)求。
活动现场一(yi)名新凯来工(gong)作人(ren)员表(biao)示，其中一(yi)些设备（包括不在产品清单上的刻(ke)蚀设备）能够支撑5纳米芯片(pian)的生产。官方视频强调了新凯来“100%自主可控”的机器控制系(xi)统和(he)操作App，并大力宣传该企业内部(bu)开发或通过战略(lue)合作伙伴开发的“自主可控”关键部(bu)件。
新凯来此次并未展(zhan)出最(zui)受关注的芯片(pian)制造设备光刻(ke)机，但依然引发了多家外(wai)媒的关注。
“新凯来展(zhan)位吸引了众多渴望了解更(geng)多信息(xi)的参观(guan)者(zhe)，产品手册很快被一(yi)抢而空。该企业网(wang)站目(mu)前只列出四种低(di)技术含(han)量(liang)的芯片(pian)制造工(gong)具，而其手册则包括多个(ge)系(xi)列的数十种产品，这些产品都以中国著名山脉命(ming)名，这让许多与(yu)会者(zhe)争(zheng)相获取更(geng)多信息(xi)。”《南华早报》称。
《日经亚洲(zhou)评论》援(yuan)引知情人(ren)士的消息(xi)称，新凯来已经启动了许多涉及芯片(pian)制造不同(tong)工(gong)艺(yi)步骤的项目(mu)，基本上希翼制造所有类型的设备。该人(ren)士称，新凯来宣布已制造出可生产28纳米芯片(pian)或更(geng)先进芯片(pian)的光刻(ke)机，但仍然难以验证(zheng)是(shi)否能够顺(shun)利实现此类机器的商业化。
美国芯片(pian)设备制造商泛林(lin)半导体和(he)芯片(pian)设计(ji)App开发商西门子EDA，在此次活动中派出了演讲者(zhe)，尽管他们没有参展(zhan)。长江存储科(ke)技董事(shi)长兼首(shou)席实行官、中国半导体行业协会理(li)事(shi)长陈南翔，华虹半导体实行董事(shi)、总裁白鹏等行业领袖也在活动上发表(biao)演讲。
白鹏指出，摩尔定律的放缓为成熟节点芯片(pian)和(he)异构集成带(dai)来了更(geng)多机会。异构集成是(shi)一(yi)种先进的封装技术，在高带(dai)宽存储器和(he)高性(xing)能计(ji)算芯片(pian)领域越来越受到青睐。
新凯来的国内同(tong)行也相继亮相。中微企业官微宣布，通过不断提升反应台之间气体控制的精度，ICP双反应台刻(ke)蚀机Primo Twin-Star又取得(de)新的突破，并发布发布首(shou)款晶圆边缘刻(ke)蚀设备。北方华创正(zheng)式宣布，进军离子注入设备市场，并发布首(shou)款离子注入机。
“去年(nian)是(shi)北方华创，今年(nian)是(shi)新凯来。”活动现场，上海(hai)一(yi)家晶圆厂工(gong)作的王姓参观(guan)者(zhe)称。还有两名参会者(zhe)来自苏州(zhou)一(yi)家工(gong)业App开发企业，他们对无(wu)法与(yu)新凯来代表(biao)详细讨论潜在合作感到沮丧(sang)。其中一(yi)人(ren)表(biao)示：“新凯来客(ke)户经理(li)今天太忙了，没时间坐下(xia)来谈。”