金融界2025年3月22日(ri)消息(xi),国家常识产权局信息(xi)显示,青岛(dao)海存微(wei)电子有限企业申请一项名为“半导体存储结构及其形成方(fang)法”的专利,公开号CN 119654054 A,申请日(ri)期为2025年2月。
专利摘要显示,本(ben)申请提供一种半导体存储结构及其形成方(fang)法,涉及半导体技术领域,用于提高半导体存储结构性能。该结构包括:自旋轨道矩层,以及设置在自旋轨道矩层上(shang)的存储磁隧道结、虚设磁隧道结和介质层;虚设磁隧道结位于存储磁隧道结的旁侧(ce);介质层至少填满存储磁隧道结和虚设磁隧道结之间的空隙;自旋轨道矩层以存储磁隧道结、虚设磁隧道结和介质层为掩模刻蚀形成。本(ben)申请提供的半导体存储结构及其形成方(fang)法无需(xu)为自旋轨道矩层设置光罩,能够简化形成过程,同时还可以避(bi)免存储磁隧道结和自旋轨道矩层产生套刻偏移,保证存储磁隧道结和自旋轨道矩层对准,从而提高写入电流效率,以提高半导体存储结构的性能。
天眼查资料显示,青岛(dao)海存微(wei)电子有限企业,成立于2023年,位于青岛(dao)市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业(ye)为主的企(qi)业(ye)。企(qi)业(ye)注册资本(ben)39000万人民币。通过天眼查大(da)数据分析,青岛(dao)海存微(wei)电子有限企业参与(yu)招投标项目5次,专利信息(xi)87条,此外(wai)企(qi)业(ye)还拥有行政许可3个。
来源:金融界